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上島 豊*; 岸本 泰明; 佐々木 明; 森林 健悟*; 永島 圭介; 加道 雅孝; 匂坂 明人*; 田島 俊樹*
JAERI-Research 98-048, 46 Pages, 1998/08
JAERI-Research-98-048.pdf:1.88MB
相対論的高強度短パルスレーザーの実現により、その極めて強い電磁場とプラズマの電子との非線形相互作用過程から、高線量のX線を発生することができるようになった。高Z物質を媒質に用いた場合、複雑な過程を経て(分極、原子過程など)X線を発生するのに対して、相対論的高強度レーザーと低Z物質との相互作用では、極短パルスのラーマー放射と制動放射が主要なX線放射メカニズムとなる。我々は、これらのX線の強度、放射角度分布、光子エネルギースペクトラムを評価した。また、ラーマー放射の強度を増大させるために必要な媒質プラズマやレーザー照射の配置などの条件について考察を行った。特に、ラーマー放射は、その光子エネルギースペクトラムが連続で、かつ高エネルギーに極大値を持つため、中空原子型のX線レーザーや超高速診断光など、多くの応用の可能性を秘めた光源である。
前野 勝樹; 山本 新; 平山 俊雄; 小川 宏明; 大塚 英男; 松田 俊明
Japanese Journal of Applied Physics, 25(7), p.L604 - L606, 1986/00
被引用回数：1 パーセンタイル：8.61(Physics, Applied)スクレィプオフ層の電子温度と不純物ガスの分圧とに対する分光強度の依存性を調べることから、軽元素不純物の発生機構を明らかにする。軽元素不純物からの分光強度は電子温度に比例し、HH
,CO,CO
,HO等の分圧に依存しない。計算機シュミレーションによると、その分光強度は軽元素不純物の流入束に比例する。これらのことから係元素不純物の流入機構は物理スパッタリングと考えられる。壁材料側から軽元素不純物を低減するためには、物理スパッタリングの小さい低Z材を選ぶことが大切である。
曽根 和穂; 山田 礼司
応用物理, 53(3), p.217 - 221, 1984/00
最近、核融合装置の第一壁は、JT-60の例からもわかるように、低Z材料(炭素材料、SiC、TiCなど)を使用することが普通になってきている。しかし低Z材料では、水素と化学反応して損耗していく化学スパッタリングが無視できない場合が多い。ここではこれらの材料における化学スパッタリング研究の最近の動きについて、著者らの経験をまじえながら解説した。タングステンをダイバータ板として使用する場合の酸素との反応についても若干ふれた。
中村 和幸; 阿部 哲也; 村上 義夫
真空, 27(5), p.410 - 413, 1984/00
JT-60の真空状態を把握するために、第一壁に使用する材料のガス放出速度を測定した。測定方法はオリフィス-マンダクタンス法である。測定試料はモリブデン及びインコネル625にTiCを被覆したものとしないものである。試料を常温で大気圧から排気した場合、インコネル625にTiCを被覆したもののガス放出速度は排気時間のおよそ-0.4乗で、それ以外の試料は排気時間のおよそ-1.1乗で減少する。これらの試料を250
Cで18時間ベーキングした後のガス放出速度は全て2.6
10
Pa.m
/s.m
以下となった。ベーキング前の試料からの放出ガスの主成分は水であった。
岸本 浩; 谷 啓二; 中村 博雄
JAERI-M 9783, 23 Pages, 1981/11
壁面から生じる不純物挙動の簡単化したモデルによりトカマクにおけるスクレプオフ層プラズマの不純物遮蔽効果を調べた。高Zないしは中間Z壁の系では、スパッタされた不純物が効果的にスクレプオフ層で遮蔽されるが、低Z壁では大部分の不純物が直接主プラズマ中に進入することが示された。一方、スクレプオフ層で遮蔽された不純物は、スクレプオフ層中で再循環(リサイクリング)するが、再循環過程での不純物増倍の程度は、壁材のZ値とともに、さらにまたスクレプオフ層プラズマの温度とともに大きくなる。プラズマ-壁相互作用の安定度は、これら再循環不純物の増倍係数によって定まることが明らかとなった。
